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アルミナターゲット Al2O3 target φ152.4xt5
JPY 0.00
スタイル
協同インターナショナル
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高真空のスパッタリングターゲット成膜装置で薄膜形成するためのセラミックス系焼結体の高純度アルミナターゲット（Al2O3 sputtering target)薄膜材料。 ■品名Description：Al2O3 4N φ152.4xt5 ■ 仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize
