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ナノパターン露光装置 PhableR 100
JPY 120,000,000.00
Title
協同インターナショナル
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デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。 詳しくはこちらから ナノパターン露光装置PhableR 100の仕様 解像度 150nm ハーフピッチ